多靶磁控溅射镀膜设备（XHGD-CG-2024118）采购公告

项目名称：（略）
公告开始日期（略）-13-32公告截止日期（略）-00-00
采购单位：（略）
联系人：（略）
签约时间要求到货时间要求签约后60个自然日
预算总价￥4600.00+NaN+NaN
发票要求增值税普通发票增值税专用发票
含税要求
送货要求
安装要求
收货地（略）富春湾新城西湖大学光电研究院
供应商资质要求符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件
公告说明
采购清单1物资名称：（略）
多靶磁控溅射镀膜设备1台
单价￥490000.0
0">技术参数及配置要求1.真空腔室：净空间尺寸不大于Φ550×H500mm，要求前开门，前门需配备观察窗，观察窗玻璃尺寸不小于Φ95mm；配至少一套方便拆卸的防污隔板；腔室、法兰、管道、防污隔板等均采用304无磁不锈钢材质；2.（略）：主泵分子泵抽速不小于2500m3/h，双级旋片泵抽速不小于30m3/h，全量程数显复合真空计量程：1×105～1×10-5Pa；3.▲真空极限：优于2.3×10-7Torr；4.★抽速：抽至3.7×10-6Torr≤20min；5.▲基片台：根据客户要求定制的基片台，最大可处理基片不小于4英寸，基片台配一体式全尺寸挡板，挡板开合需要磁流体密封；基片台需要设计旋转：旋转速度0-25转/分连续可调，基片台旋转需要磁流体密封；基片台加热：PID智能温控表，控温范围室温～600℃；6.★阴极靶：不少于3只2英寸圆形平面靶，需采用原装进口品牌，靶头内部需采用全金属密封，不得采用胶圈密封，以满足超高真空应用。靶材安装不需要固定压环，暗区屏蔽装置高度低于靶材表面，减少对（略）域的束缚，并降低靶材之外材料被同时溅射出来的几率。靶头可调整角度不小于±45°，可单靶轮流/多靶聚焦共溅射；7.溅射电源：直流电源和直流脉冲电源各1台，要求可切换恒压，恒流，恒功率控制模式，电源功率可以预先设置；射频电源1台，要求自动匹配；8.靶挡板：靶上有气动水平打开式挡板，角度与靶倾斜角度同步可调，要求磁流体密封；9.（略）：（略）工艺气体MFC控制，量程范围需满足工艺制备金属、金属氧化物的需要；要求氩气准确度不低于±0.8sccm；其他工艺气体准确度不低于±0.5sccm；10.（略）：PLC+（略），触摸屏不小于15英寸，（略）的控制分为手动和自动二种模式，自动模式下，根据腔内压强自动执行相关泵，阀的启闭；可远程监控，软件使用期限：永久有效；11.其它：冷却循环水机1台，制冷量不小于1P；镀膜设备及外围设备（冷水机等）总占地面积不超过1平米；